設(shè)備簡述：TS-JRS電子束蒸發(fā)卷繞鍍膜設(shè)備是一種采用高能電子束鍍膜方式進行薄膜沉積的鍍膜設(shè)備。 

設(shè)備應(yīng)用：電子束蒸鍍系統(tǒng)除了可以蒸鍍常規(guī)的金屬材料（比如：銅、銀、鋁等等），還可以鍍制高熔點材料（比如：SiO₂、Al₂0₃、TiO₂等等）。設(shè)備可用于鋰電池材料、導(dǎo)電材料、彩色包裝、 防偽材料、透明高阻隔膜材料等功能薄膜材料的制備。

設(shè)備特點：設(shè)備配置專有技術(shù)研制的高功率直式電子槍，適用于種類繁多的鍍膜材料，如各種金屬或介質(zhì)材料。采用專有的技術(shù)的大功率直式電子槍機控制電源，可以實現(xiàn)高速、大幅寬的基材連續(xù)鍍膜。電子束蒸鍍技術(shù)比起其它蒸鍍技術(shù)具有適用面更廣，鍍膜材料種類更多的優(yōu)勢。相比磁控濺射等鍍膜方式則可以實現(xiàn)更快的鍍膜速度、更大的產(chǎn)能和更低的運行成本。設(shè)備具有多種型號規(guī)格，可以安裝單把或者多把大功率電子槍，可以鍍制的基材幅寬從600mm到2450mm。