產(chǎn)品詳情
設(shè)備簡述:TS-CJX/M(單門/雙門)系列磁控濺射光學(xué)鍍膜設(shè)備是一款廣泛適應(yīng)于制備光學(xué)膜和AF膜的立式磁控濺射鍍膜設(shè)備。
設(shè)備應(yīng)用:用于平板玻璃、玻璃鏡片、手機蓋板、塑料靶材/片材、手機外殼等產(chǎn)品表面鍍制AR膜、濾光膜、彩色膜、高反膜、NCVM或者AF膜等各種光學(xué)膜和裝飾膜。
設(shè)備特點:本產(chǎn)品采用反應(yīng)濺射鍍膜工藝,配置多組平面或者旋轉(zhuǎn)濺射陰極,采用直流或者中頻濺射電源。設(shè)備適合鍍制多層光學(xué)膜,加裝蒸發(fā)鍍膜裝置,還可以實現(xiàn)AF膜的鍍制。鍍膜產(chǎn)品廣泛應(yīng)用在手機、平板電腦、可穿戴、筆記本電腦等銷費電子產(chǎn)品,還可以用于車載、手機后蓋、家電等不同的領(lǐng)域。
與傳統(tǒng)蒸發(fā)式光學(xué)鍍膜機相比,具有:有效鍍膜面積大、裝載量大、效率較高、工藝穩(wěn)定、重復(fù)性和穩(wěn)定性好以及膜層結(jié)合力好等優(yōu)點。
設(shè)備應(yīng)用:用于平板玻璃、玻璃鏡片、手機蓋板、塑料靶材/片材、手機外殼等產(chǎn)品表面鍍制AR膜、濾光膜、彩色膜、高反膜、NCVM或者AF膜等各種光學(xué)膜和裝飾膜。
設(shè)備特點:本產(chǎn)品采用反應(yīng)濺射鍍膜工藝,配置多組平面或者旋轉(zhuǎn)濺射陰極,采用直流或者中頻濺射電源。設(shè)備適合鍍制多層光學(xué)膜,加裝蒸發(fā)鍍膜裝置,還可以實現(xiàn)AF膜的鍍制。鍍膜產(chǎn)品廣泛應(yīng)用在手機、平板電腦、可穿戴、筆記本電腦等銷費電子產(chǎn)品,還可以用于車載、手機后蓋、家電等不同的領(lǐng)域。
與傳統(tǒng)蒸發(fā)式光學(xué)鍍膜機相比,具有:有效鍍膜面積大、裝載量大、效率較高、工藝穩(wěn)定、重復(fù)性和穩(wěn)定性好以及膜層結(jié)合力好等優(yōu)點。
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