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ICP磁控光學(xué)鍍膜機(jī)

ICP磁控光學(xué)鍍膜機(jī)


產(chǎn)品詳情

設(shè)備簡(jiǎn)述:TS-CJX系列ICP磁控光學(xué)鍍膜機(jī)是一種新型高速的濺射沉積光學(xué)多層膜的鍍膜設(shè)備。

設(shè)備應(yīng)用:適用于在玻璃鏡片,塑料板材/片材等基材的表面鍍制AR、超硬AR、BBAR膜層、高反射膜,UV/IR截止濾光片、帶通濾光片、彩色膜等精密光學(xué)膜的鍍膜。還可以實(shí)現(xiàn)AF/AS膜的鍍制。產(chǎn)品廣泛應(yīng)用在手機(jī)、平板電腦、車載中控屏玻璃/塑料板材、光學(xué)鏡片/鏡頭等不同領(lǐng)域。

設(shè)備特點(diǎn):設(shè)備采用先濺射后離化的ICP鍍膜工藝,相比傳統(tǒng)的反應(yīng)濺射工藝,新工藝具有更高的沉積效率、更好的鍍膜重復(fù)性和更好的膜層品質(zhì),膜層品質(zhì)體現(xiàn)在有更好的膜層致密度和更低的吸收,可以實(shí)現(xiàn)精密光學(xué)多層膜鍍制。設(shè)備可以設(shè)計(jì)成單室或者多室結(jié)構(gòu),并可以選配自動(dòng)裝卸片裝置,以實(shí)現(xiàn)更高的生產(chǎn)效率和更低的運(yùn)行成本。設(shè)備配置蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng),還可以實(shí)現(xiàn)AF/AS膜的制備。

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