設(shè)備簡(jiǎn)述：公司可以針對(duì)科研院所、企業(yè)實(shí)驗(yàn)室等研發(fā)機(jī)構(gòu)的需求，訂制科研用途的小型真空鍍膜設(shè)備，包括各類磁控濺射鍍膜機(jī)、電弧離子鍍膜機(jī)、蒸發(fā)鍍膜機(jī)、PECVD化學(xué)氣相沉積設(shè)備、ALD原子層沉積設(shè)備等，還可以設(shè)計(jì)成多功能復(fù)合型鍍膜設(shè)備。

設(shè)備用途：此類設(shè)備主要用于高校、科研機(jī)構(gòu)或企業(yè)實(shí)驗(yàn)室作為新工藝及新材料研發(fā)等用途，也可以用于小批量試驗(yàn)或樣品打樣。可以用于鍍制如：光學(xué)膜、導(dǎo)電膜、硬質(zhì)膜、潤(rùn)滑膜、屏蔽膜、散熱膜、電學(xué)膜、絕緣膜等等。

設(shè)備特點(diǎn)：我公司可以根據(jù)用戶的不同需求，做成鐘罩式、箱式、連續(xù)式、卷繞式等不同的設(shè)備結(jié)構(gòu)，可以配置磁控濺射陰極、電弧源、電子槍蒸發(fā)源、激光鍍膜源、PECVD電極等鍍膜系統(tǒng)，可選裝的輔助鍍膜系統(tǒng)包括：加熱烘烤、脈沖偏壓、離子源、離子轟擊、RF或微波放電裝置等等。