濺射涂層技術可生產(chǎn)形態(tài)致密且無缺陷的涂層。微觀結構的控制保證了對表面的完美粘附。

結果是在原子水平上形成致密且極其光滑的涂層，并且大大超過了經(jīng)典濺射和 Arco 涂層的質量和韌性。

得益于騰勝科技的專有技術，PVD 2.0 技術特別適用于汽車行業(yè)以及您希望從 PVD 獲得最大性能的領域。

PVD 2.0 使用長脈沖（高達 3.0 毫秒），在陰極上具有數(shù)百千瓦的功率。這賦予原子高能量，以便將它們投射到基材的表面層中，沉積致密的粘附涂層，沒有表面缺陷且非常堅硬（> 30 GPa）并且楊氏模量增加（> 368 GPa）。

涂層示例：

●耐腐蝕性：CrN / NbN
●抗氧化性：CrAlYN/CrN、Ti-Al-Si-N、Cr-Al-Si-N
●光學系統(tǒng)：Ag、TiO2、ZnO、InSnO、ZrO2、CuInGaSe
●最大相：TiSiC
●微電子：Cu、Ti、TiN、Ta、TaN
●硬質涂層：氮化碳 CNx、Ti – C
●疏水表面：HfO2

磁控濺射鍍膜機技術數(shù)據(jù)：
平均功率：20 千瓦
峰值功率高達 3 MW
最大功率：1500 V / 2000 A
脈沖長度：50-1500 ms