設備介紹

多層膜磁控濺射鍍膜是針對玻璃或者塑膠板材/片材等平板型基片表面進行鍍膜而設計的立式連續(xù)鍍膜設備。

設備應用

適用在玻璃或者塑膠板材/片材表面進行鍍膜。設備適合鍍制ITO、Ag、Cr、Ti、a-C、DLC等單質膜或者鍍制SiO2、Nb2O5、TiO2、TiN、CrN、WO、NiO等介質膜。可用于鍍制ITO/AR+ITO透明透明膜、AR增透膜、薄膜太陽能電池AZO膜、電致變色膜等鍍層。鍍膜產品廣泛應用在觸摸屏、平板顯示、車載玻璃/塑料板材、光學玻璃、薄膜太陽能電池、電致變色智能窗等領域。

設備特點

1、設備為立式多腔體結構，采用磁控濺射鍍膜方式，配置直流或者中頻濺射電源，適合鍍制多層膜。

2、設備具有穩(wěn)定性高，自動化程度高，適合大面積或者大批量連續(xù)鍍膜加工的優(yōu)點。可實現(xiàn)單面或者雙面鍍膜。